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運用微分理論對刻線密度為1200 lp／mm的紫外刻劃光柵母版及其二代復(fù)制版的衍射特性做了模擬,，指出了二者之間存在的差異,，并與測試結(jié)果做了對照,。數(shù)值模擬表明,，紫外刻劃光柵二代復(fù)制版的衍射特性與其母版略有不同,，原因是光柵槽形發(fā)生了改變，分別給出了采用多項式擬合槽形函數(shù)和傅里葉級數(shù)擬合槽形函數(shù)的方法,。此理論分析方法為澄清光柵復(fù)制工藝中的爭議完善翻版技術(shù)以及尋找提高紫外光柵衍射效率的途徑提供了很好的理論參考依據(jù),。

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